摘要： 目的 探讨二硅酸锂涂层不同表面处理方式对氧化锆粘接性能的影响。方法 研究于2025年3—10月在福建省口腔疾病研究重点实验室进行。制备45个氧化锆试样（直径10 mm、厚1.5 mm），并将其随机分为3组（每组15个），根据粘接面处理方法不同分为A组（50 μm氧化铝喷砂处理）、B组（二硅酸锂涂层+ 5%氢氟酸酸蚀处理）和C组（二硅酸锂涂层后50 μm氧化铝喷砂+ 5%氢氟酸酸蚀处理）。采用接触角测量仪检测各组表面接触角，并通过原子力显微镜（atomic force microscope，AFM）、扫描电子显微镜（scanning electron microscope，SEM）对试样表面特征进行分析。制作粘接试件，使用万能材料试验机以1 mm/min的恒定加载速度施加平行于界面的剪切力直至试样破坏，测定剪切粘接强度（shear bond strength，SBS），并在体视显微镜下观察其失效模式。结果 接触角测量仪测量结果显示，A组的接触角为（69.24 ± 1.21）°，B组的接触角为（37.46 ± 0.46）°，C组的接触角为（27.26 ± 0.31）°。AFM分析结果显示，A组的算术平均粗糙度（Ra）为56.9 nm、均方根粗糙度（Rq）为78.1 nm，B组的Ra为91.3 nm、Rq为111.0 nm，C组的Ra为299.0 nm、Rq为374.0 nm。SEM观察结果显示，A组表面未见明显孔隙，B组表面出现针状晶体结构暴露并伴有细微的晶间间隙，C组表面出现深凹坑并广泛暴露出晶体结构。SBS测试结果显示，C组的SBS［（9.16 ± 1.24）MPa］显著高于A组［（4.47 ± 1.08）MPa］和B组［（5.59 ± 1.17）MPa］，差异有统计学意义（q值分别为10.830、8.226，均P < 0.001）；A组与B组比较，差异无统计学意义（q = 2.604，P = 0.175）。失效模式分析显示，A组全部表现为界面破坏，B组以界面破坏为主［70%（7/10）］，C组以混合性破坏为主［90%（9/10）］。结论 二硅酸锂涂层联合喷砂和酸蚀处理可形成粗糙化的表面，显著提高氧化锆与树脂水门汀之间的粘接强度，并改善粘接界面的失效模式。
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