摘要:
目的 研制氧化锆基台并评价其与种植体连接界面的适合性。方法 2007年5月至2009年1月在青岛大学医学院附属医院口腔科选用纳米氧化锆粉,采用冷等静压成型方法和二次烧结工艺制作氧化锆基台,选取15枚氧化锆基台与0sstem USⅡ种植体装配,应用扫描电镜测量基台与种植体连接界面微间隙。结果 研制的氧化锆基台与种植体装配顺利,基台与种植体连接界面的边缘微间隙为(3.17 ± 0.34)μm、内部微间隙为(28.4 ± 2.7)μm。结论 采用纳米氧化锆粉经冷等静压成型和二次烧结工艺制作的基台与种植体有较好的适合性。